不同的國家、企業,在芯片制造基本工藝領域擅長的工藝也各不相同。例如清洗工藝的核心競爭企業多達12家,其中2家為中國企業,2家為韓國企業,剩余的8個企業,日本和美國各占一半。除了清洗工藝,在熱處理工藝、摻雜工藝、薄膜工藝、光刻工藝等方面,各個核心企業的工藝也各不相同。那么在技術創新方面,不同國家核心企業又分別偏向哪個領域呢?
日本企業多位突破式創新與模仿式創新相結合,傾向于在他人的成果上進行創新,增加技術的新穎性;韓國企業多為突破式創新,最為大眾所熟知的三星電子公司就格外擅長突破式創新;而大家最為關注的國內企業,則是以模仿式創新為主,少數企業可以進行突破式創新。目前很多國內芯片制造廠商大都采用模仿式為主,突破式為輔的創新方式,在學習中實現技術的突破。
目前,中國的芯片制造技術正在漸漸走出模仿式創新,不再盲從于國外的創新模式,而是開始結合中國獨有的資源稟賦和制度環境,因地制宜地升級創新技術,制定新的創新策略,未來中國的芯片制造行業將會呈現出全新的格局。
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