光刻機是一種高端的光學設備，用于在芯片表面刻印出精確的圖案和結構。光刻機的技術含量很高，需要大量的研發和制造經驗。

目前中國是能造光刻機的，我們在2020年已經搞定了180nm制程光刻機的全國產化，但是相對比較低端，不適合現在的手機電腦等高精度的設備，因此很多企業認為研發光刻機不如買光刻機，因為成本太大了。而目前能造出光刻機的只有荷蘭、日本、中國三個國家，能造出euv光刻機的只有荷蘭和日本。

中國在過去幾十年中一直在努力發展自己的芯片產業，但是光刻機的制造卻一直是中國芯片產業的短板。主要原因有以下幾個方面：

技術積累不足：光刻機是一項高端技術，需要長期的技術積累和經驗積累。中國在過去幾十年中主要發展的是制造業，對于高端技術的研發和制造經驗積累不足，這也導致了在光刻機等高端技術領域的發展相對滯后。

制造工藝落后：光刻機的制造需要極高的精度和工藝水平。中國在制造業方面的技術水平相對較低，尤其是在精密加工和制造方面還存在較大的差距。這也使得中國在制造高端光刻機方面的困難更加嚴峻。

人才短缺：光刻機制造需要大量的技術人才和管理人才。中國在這方面的人才儲備相對較少，尤其是在高端技術領域的人才更加短缺。

希望未來中國制造業的不斷發展和政府對高端技術領域的重視，中國在光刻機制造方面的技術水平和制造能力也將會得到很大的提升。