我們都知道近幾年來美國限制了荷蘭對中國光刻機的出口，目前僅有一種光刻機能出口給中國，那么是幾納米的呢？我們一起看看吧。

目前asml的官網主要出售的光刻機有三款型號，分別是NXT:2050i,NXT:2000i,NXT:1980Di,在這里面目前只有最低端的1980Di允許出售給中國，1980Di型號的DUV光刻機單次曝光精度為38nm，在多次曝光工藝下，能將芯片制程縮小到7nm。但是多次曝光費用和技術也隨之上升，所以雖然我們能買到1980Di，但是想用其生產出7nm的芯片，還是很難。

臺積電曾經用這種光刻機量產了7nm的芯片，目前以我們的水平，想通過這個光刻機量產7nm的芯片還是比較困難。我國目前能量產的光刻機是上海微電子的光刻機，28nm的光刻機也出來了，只是還沒能達到量產的水平。

asml向中國出售光刻機是幾納米的？相信大家也知道答案是38nm了，但是這個數字并不能代表光刻機的最終性能水平，畢竟光刻機的性能除了分辨率還包括曝光速度、穩定性、精度等多個方面。而且即便是最先進的EUV光刻機，也只能制造出5納米級別的芯片，距離3納米的制程還有一段距離。不過，我們相信在中國科技人員的不懈努力下，未來一定能夠生產出更加先進的光刻機，推動我國芯片產業的發展，讓我們期待更美好的未來！